Zur Durchführung der Beschichtungsaufgaben stehen folgende Geräte zur Verfügung:
- Thermische CVD- Anlage für Hoch- und Mitteltemperaturbeschichtungen,
- plasmaunterstützte CVD- Anlagen mit Gleichstrom-, gepulster Gleichstrom- und Hochfrequenzanregung,
- plasmaunterstützte Hochvakuuumapparatur für thermochemische Randschichtbehandlungen,
- Ionenimplantationsanlage mit zusätzlicher Option zur ionenstrahlunterstützten Abscheidung.









